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光敏印章

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光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过*设备瞬间发出强光辐射,使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的。 光敏印章的面世可以说是行业的一次革命,完全颠覆了传统凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰,无需印尼,即印即干的特点。其印迹可与印刷媲美,是目前好的、*的产品,无需印台。(一次注油可以用1000次以上,可以反复加油。)
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武汉市武昌区常胜印章材料批发部
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